在芯片行业有个摩尔定律,它是由英特尔创始人之一的戈登.摩尔提出来的,内容为:
当价格不变时,集成电路上所能容纳的晶体管数目每隔大约18到24个月就会增加一倍,性能也将提升一倍。
而进入2002年后,业内人士一致认为,摩尔定律怕是要失效了。
这时全球芯片行业开始进入瓶颈期,光刻机的光源波长卡在193nm,芯片的制程也止步在65nm。
这对光刻机等设备制造商来说,几乎是致命性的打击。
芯片制程两年突破一个台阶,是因为技术引领下的光刻设备的进步,每一次进步和突破都意味着巨大的商机。
现在技术止步不前,就等于产品无法更新换代,企业营收就无法保证。
SVG也正是因为前期投入巨资进行科研,而无法取得实质性成果,这才导致被出售的结局。
芯片制程,可以理解为集成电路内电路之间的距离,通常来说,制程节点越小,意味着晶体管越小、速度越快、能耗表现越好。
1992年,芯片制程的工艺节点达到了500纳米,1995年350纳米,1997年200纳米,1999年140纳米,2001年实现了65纳米。
此时全球光刻机巨头尼康、佳能、阿斯麦以及已经被阿斯麦和安美森收购的SVG,都在执着于用157纳米波长的光源,在“干式”光刻技术上寻求突破。
阿斯麦和SVG加入的EUVLLC联盟,对极紫外光源有了一定的研究成果,但这种波长只有纳米的光源真正用到光刻机上还有一个漫长的过程。
业内人士坚持认为,在光刻技术“摩尔定律”上,157纳米的光源、“干式”光刻技术,就是唯一的赛道。
而林古峰不这么认为,特别是在安美森和阿斯麦联合收购了SVG后,林谷峰亲自跟进了光源项目研究小组的进度,更加感到157纳米波长的光,不适用于光刻领域。
林谷峰跟陈立东解释说:“因为空气中的氧气会吸收157纳米的光,所以光经过的整个路径必须只有惰性气体,现在只能用氮气。
氮气的成本很高,而且如果意外漏出太多氮气会致命的。
我算了一下,157纳米只比193纳米短23%,换句话说,只能把解析度提高23%。
用193纳米加水可以提高46%,几乎是两倍,因为波长只在水中变短为132纳米。
光在进入水前的波长是193纳米,可以避开所有157纳米的困难,能改进46%,又容易被半导体业接受,真是天造之合,这是上帝给半导体业的奇妙安排。”
说道最后,林谷峰瘦削的脸庞上漾起一片绯红,仿佛真的感受到了上帝的关爱一般。
陈立东算了算,好像46%的数值算的不太对
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